报告时间：11月20日（星期五）下午14：00

报告地点：会议中心第二会议室

报告人：伍广朋研究员，浙江大学高分子科学与工程学系

　　报告摘要：

　　二氧化碳作为碳源和环氧烷烃共聚构筑聚碳酸酯已经成为高分子化学的重要研究领域，但聚合反应过程中催化活性低、产物金属残留着色、材料品种单一、应用受限等问题困扰着二氧化碳基聚碳酸酯化学和材料的发展。本报告将介绍二氧化碳共聚物合成方法及其在集成电路光刻材料中的应用探索性研究。具体包括：高活性、无金属残留的有机硼催化体系的设计和合成，以及用于环氧烷烃与二氧化碳的高选择性、全交替共聚合和环加成反应研究；高灵敏度的二氧化碳基电子束光刻胶，以及可热退火、具有小于10纳米分辨率、可实现精准刻蚀定位要求的二氧化碳基嵌段高分子材料的应用研究。

　　报告人简介：

　　伍广朋，工学博士、浙江大学高分子科学与工程学系特聘研究员、博士生导师；目前主要从事二氧化碳化学转化、可降解高分子材料、嵌段聚合物蚀刻技术等方面的研究，具体涉及高效金属/无金属聚合催化剂的开发，环境友好二氧化碳基聚碳酸酯、聚酯高分子、聚醚高分子材料的构筑，聚合物微结构和材料性能的关系与调控，以及高灵敏度、低粗糙度、高分辨率的嵌段共聚物和光刻胶材料；目前承担国家自然科学基金面上、重大研究计划(培育项目)等科研任务，以第一或通讯作者于J. Am. Chem. Soc.、Angew. Chem. Int. Ed.、Macromolecules、Energy Environ. Sci.、Nano Letters、ACS Nano发表多篇论文，相关研究授权多篇专利。

　　联系人：02T4组 陈庆安

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